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낮은 GWP를 가진 CxF2xO 을 이용한 SiO2 식각 공정 특성에 관한 연구
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김동우
탁현우
염근영
성다인
문룡
김두산
한국진공학회[2020]
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C6F6 플라즈마를 이용한 패터닝 공정에서의 첨가 가스(Ar, O2) 에 따른 식각 연구
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김동우
탁현우
염근영
성다인
한국진공학회[2020]
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낮은 GWP의 C₃H₂F6 기반 화합물의 Ultra Low-k Dielectirc 식각 연구
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김기현
탁현우
장준기
염근영
성다인
김두산
김동우
한국진공학회[2020]
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