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Polishing Characteristics of MnO2 Polishing Slurry on the Si-face of SiC Wafer
Tao Yin
Tosiro Doi
구로가와슈헤이
Zhao zhong Zhou
Kai ping Feng
2018년
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논문 Analysis
연구자 Analysis
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Tao Yin
Tosiro Doi
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Zhao zhong Zhou
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구로가와슈헤이
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'구로가와슈헤이'
의 발표논문(1)
Polishing Characteristics of MnO2 Polishing Slurry on the Si-face of SiC Wafer
Kai ping Feng
구로가와슈헤이
Zhao zhong Zhou
Tosiro Doi
Tao Yin
한국정밀공학회
[2018]