연구동향 분석
홈
알림
이용안내
오류접수
API
서비스소개
인기 연구 키워드 :
인기 활용 키워드 :
Critical dimension uniformity improvement by adjusting etch selectivity in Cr photomask fabrication
오창훈
강민욱
한재원
2016년
활용도 Analysis
논문 Analysis
연구자 Analysis
활용도 Analysis
논문 Analysis
연구자 Analysis
오창훈
강민욱
한재원
연구자명
연구자명
연구자명
활용도
공유도
영향력
연구자정보
저자
오창훈
발표논문(1)
발표논문 보기→
공동연구자(2)
강민욱
1건
한재원
1건
유사연구자 (20)
※활용도순 상위 20명
Choi, Jeong Eun
1건
Hong, Sang Jeen
1건
Lee, Yong Ho
1건
권기청
1건
김우재
1건
김재태(Jaetae Kim)
1건
김지환
1건
성재환(J. H. Sung)
1건
신기원
1건
신동혁
1건
온범수
1건
이용호
1건
이태현
1건
이환희
1건
장일용(I. Y. Jang)
1건
전찬욱(C. U. Jeon)
1건
정유석(Y. S. Jeong)
1건
정준화(J. H. Chung)
1건
최정은
1건
홍상진
1건
공동연구/유사연구
오창훈
'오창훈'의 연구자 점유율
논문점유율 요약
동일주제 총논문수
주제별 연구자 총논문수
연구자점유율(주제별 연구자점유율의 평균)
16
4
42.4%
자세히
연구자 점유율
주제
주제별 논문수
주제별 연구자논문수
주제별 연구자점유율
주제어
critical dimension uniformity
1
1
100.0%
etch selectivity
3
1
33.3%
photomask
3
1
33.3%
optical emission spectroscopy
9
1
11.1%
계
16
4
* 주제로 분류 되지 않은 논문건수
0
닫기
연구주제 Time-line
'오창훈'
의 발표논문(1)
Critical dimension uniformity improvement by adjusting etch selectivity in Cr photomask fabrication
강민욱
한재원
오창훈
한국진공학회
[2016]