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낮은 GWP를 가진 CxF2xO 을 이용한 SiO2 식각 공정 특성에 관한 연구

탁현우 문룡 성다인 김두산 김동우 염근영 2020년

활용도
공유도
영향력

연구자정보

- 저자 김두산
- 발표논문(2)
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공동연구자(7)
- 김동우 2건
- 성다인 2건
- 염근영 2건
- 탁현우 2건
- 김기현 1건
- 문룡 1건
- 장준기 1건
유사연구자 (20)※활용도순 상위 20명
- Hong, Sang Jeen 1건
- Jihwan Lee 1건
- Jiyoung Oh 1건
- Junho Jung 1건
- Junyoung Park 1건
- Kim, Moon Ki 1건
- Kyongnam Kim 1건
- Lee, Eun Young 1건
- Seokjun Kim 1건
- Yunseok Lee 1건
- 김기현 1건
- 김동우 3건
- 김문기 1건
- 문룡 1건
- 성다인 2건
- 성다인 1건
- 염근영 3건
- 이은영 1건
- 장준기 1건
- 탁현우 3건

공동연구/유사연구

'김두산'의 연구자 점유율

논문점유율 요약
동일주제 총논문수	주제별 연구자 총논문수	연구자점유율(주제별 연구자점유율의 평균)
667	16	25.8%

연구자 점유율
주제		주제별 논문수	주제별 연구자논문수	주제별 연구자점유율
주제어	C₃F<	2	1	50.0%
	Etch Profile	2	1	50.0%
	F<	2	1	50.0%
	O Plasma	2	1	50.0%
	Ultra Low-k	2	1	50.0%
	Capacitively Coupled Plasma ...	3	1	33.3%
	Global Warming Potential(G ...	6	2	33.3%
	plasma etch	5	1	20.0%
	O&	6	1	16.7%
	C<	10	1	10.0%
	12 ＆lt	11	1	9.1%
	lfc	12	1	8.3%
	6＆lt	16	1	6.3%
	/SUB＆gt	294	1	0.3%
	SUB＆gt	294	1	0.3%
계		667	16
* 주제로 분류 되지 않은 논문건수			0

연구주제 Time-line

'김두산'의 발표논문(2)

낮은 GWP를 가진 CxF2xO 을 이용한 SiO2 식각 공정 특성에 관한 연구
김동우 탁현우 염근영 성다인 문룡 김두산 한국진공학회 [2020]
낮은 GWP의 C₃H₂F<SUB>6</SUB> 기반 화합물의 Ultra Low-k Dielectirc 식각 연구
김기현 탁현우 장준기 염근영 성다인 김두산 김동우 한국진공학회 [2020]