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The Dry Etching Characteristics of TiO₂ Thin Films in N₂/CF₄/Ar Plasma

Choi, Kyung-Rok Woo, Jong-Chang Joo, Young-Hee Chun, Yoon-Soo Kim, Chang-Il 2014년

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연구자정보

- 저자 Woo, Jong-Chang
- 발표논문(4)
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공동연구자(8)
유사연구자 (20)※활용도순 상위 20명

공동연구/유사연구

Woo, Jong-Chang

'Woo, Jong-Chang'의 연구자 점유율

논문점유율 요약
동일주제 총논문수	주제별 연구자 총논문수	연구자점유율(주제별 연구자점유율의 평균)
5,017	19	30.6%

연구자 점유율
주제		주제별 논문수	주제별 연구자논문수	주제별 연구자점유율
주제분류(KDC/DDC)	응용 물리	4,649	1	0.0%
주제어	$cf_4/ar$	1	1	100.0%
	$hfalo_3$	1	1	100.0%
	TaNO	1	1	100.0%
	$sf_6$	4	1	25.0%
	etch	4	1	25.0%
	icp	35	3	8.6%
	etching	41	2	4.9%
	xps	94	4	4.3%
	aes	67	2	3.0%
	afm	58	1	1.7%
	$tio_2$	62	1	1.6%
계		5,017	19
* 주제로 분류 되지 않은 논문건수			0

연구주제 Time-line

'Woo, Jong-Chang'의 발표논문(4)

The Dry Etching Characteristics of TiO<SUB>2</SUB> Thin Films in N<SUB>2</SUB>/CF<SUB>4</SUB>/Ar Plasma
Choi, Kyung-Rok Woo, Jong-Chang Kim, Chang-Il Joo, Young-Hee Chun, Yoon-Soo 한국전기전자재료학회 [2014]
The Fabrication of an Applicative Device for Trench Width and Depth Using Inductively Coupled Plasma and the Bulk Silicon Etching Process
Choi, Chang-Auck Woo, Jong-Chang Kim, Chang-Il 한국전기전자재료학회 [2014]
Dry Etching Properties of HfAlO<SUB>3</SUB> Thin Film with Addition O<SUB>2</SUB> gas Using a High Density Plasma
Kim, Jeong-Ho Woo, Jong-Chang Lee, Yong-Bong 한국전기전자재료학회 [2014]
Chemical Reaction on Etched TaNO Thin Film as O<SUB>2</SUB> Content Varies in CF<SUB>4</SUB>/Ar Gas Mixing Plasma
Kim, Chang-Il Woo, Jong-Chang 한국전기전자재료학회 [2017]