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The Dry Etching Characteristics of TiO₂ Thin Films in N₂/CF₄/Ar Plasma

Choi, Kyung-Rok Woo, Jong-Chang Joo, Young-Hee Chun, Yoon-Soo Kim, Chang-Il 2014년

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논문상세정보

- 저자 Choi, Kyung-Rok Woo, Jong-Chang Joo, Young-Hee Chun, Yoon-Soo Kim, Chang-Il
- 제어번호 101056438
- 학술지명 Transactions on Electrical and Electronic Materials
- 권호사항 Vol. 15 No. 1 [ 2014 ]
- 발행처 The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
- 발행처 URL http://www.kieeme.or.kr
- 자료유형 학술저널
- 수록면 32-36
- 언어 English
- 출판년도 2014
- 등재정보 KCI등재
- 판매처
- 주제어 $CF_4/Ar$ $TiO_2$ AFM etching XPS
- 참고문헌( 0)
유사주제 논문( 251)

인용/피인용

The Dry Etching Characteristics of TiO_{2 ...}

' The Dry Etching Characteristics of TiO₂ Thin Films in N₂/CF₄/Ar Plasma' 의 주제별 논문영향력

논문영향력 요약
동일주제 총논문수	논문피인용 총횟수	주제별 논문영향력의 평균
주제	$cf_4/ar$ $tio_2$ afm etching xps
256	0	0.0%

논문영향력
주제		주제별 논문수	주제별 피인용횟수	주제별 논문영향력
주제어	$cf_4/ar$	1	0	0.0%
	$tio_2$	62	0	0.0%
	afm	58	0	0.0%
	etching	41	0	0.0%
	xps	94	0	0.0%
계		256	0	0.0%
* 다른 주제어 보유 논문에서 피인용된 횟수			0