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Woo, Jong-Chang
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연구자정보
저자
Woo, Jong-Chang
발표논문( 1)
공동연구자( 2)
Joo, Young-Hee
1건
Kim, Chang-Il
1건
유사연구자 ( 20)
※활용도순 상위 20명
Choi, Se Jin
1건
Kim, Chang-Il
1건
Kim, Han Seong
1건
Park, H.H.
1건
Park, Jae Hwa
1건
Yoo, Sehoon
1건
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2건
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1건
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1건
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1건
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1건
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1건
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1건
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1건
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1건
이홍주
1건
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1건
연구자관계도
Woo, Jong-Chang
'Woo, Jong-Chang'의 연구자 점유율
논문점유율 요약
동일주제 총논문수
주제별 연구자 총논문수
연구자점유율(주제별 연구자점유율의 평균)
127
4
14.6%
자세히
연구자 점유율
주제
주제별 논문수
주제별 연구자논문수
주제별 연구자점유율
주제어
highdensityplasma
2
1
50.0%
x-ray photoelectron spectrosc ...
22
1
4.5%
etching
41
1
2.4%
$tio_2$
62
1
1.6%
계
127
4
* 주제로 분류 되지 않은 논문건수
0
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'Woo, Jong-Chang'
의 발표논문(1)
Surface Etching of TiO<SUB>2</SUB> Thin Films Using High Density Cl<SUB>2</SUB>/Ar Plasma
Joo, Young-Hee
Woo, Jong-Chang
Kim, Chang-Il
한국전기전자재료학회
[2015]