연구동향 분석
홈
알림
이용안내
오류접수
API
서비스소개
인기 연구 키워드 :
인기 활용 키워드 :
권대선
연구자 Analysis
발표논문
연구자 Analysis
발표논문
연구자정보
저자
권대선
발표논문( 1)
공동연구자( 0)
유사연구자 ( 20)
※활용도순 상위 20명
홍성창 ( Sung Chang Hong )
2건
Hong, Sung Chang
2건
김범용
1건
김상호
1건
김영준
1건
김종철
1건
김준식
1건
김태용
1건
백민경
1건
신중훈 ( Jung Hun Shin )
2건
오동현
1건
이선화
1건
이성남
1건
이영석 ( Young Seak Lee )
1건
이준신
1건
장기택
1건
조유진
1건
한경숙 ( Keung Shuk Han )
1건
홍성창
2건
홍현욱
1건
연구자관계도
권대선
'권대선'의 연구자 점유율
논문점유율 요약
동일주제 총논문수
주제별 연구자 총논문수
연구자점유율(주제별 연구자점유율의 평균)
903
19
50.0%
자세히
연구자 점유율
주제
주제별 논문수
주제별 연구자논문수
주제별 연구자점유율
주제분류(KDC/DDC)
기술과 연합작용
728
1
0.1%
주제어
(Al-doped) TiO2
1
1
100.0%
Electrode and dielectric mate ...
1
1
100.0%
NH3 처리
1
1
100.0%
디램 커패시터
1
1
100.0%
유전막
1
1
100.0%
이중전극막
1
1
100.0%
전극막
1
1
100.0%
DRAM capacitor
2
1
50.0%
Discrete feeding method
2
1
50.0%
NH3 treatment
2
1
50.0%
Bilayer electrode
3
1
33.3%
표면상태
4
1
25.0%
ruo2
5
1
20.0%
ru
15
1
6.7%
TiN
16
1
6.3%
surface morphology
24
1
4.2%
원자층 증착법
27
1
3.7%
Atomic layer deposition
68
1
1.5%
계
903
19
* 주제로 분류 되지 않은 논문건수
0
닫기
'권대선'
의 발표논문(1)
Modified atomic layer deposition processes of the Ru electrode thin films for next generation DRAM capacitor = 차세대 DRAM 커패시터를 위한 Ru 전극막의 수정된 ALD 공정 연구
권대선
서울대학교 대학원
[2021]