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Inductively coupled plasma etching of high-k dielectric HfSiO4 film
최병수
김해찬
김진곤
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류정호
조현
2018년
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최병수
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최병수
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'최병수'
의 발표논문(1)
Inductively coupled plasma etching of high-k dielectric HfSiO4 film
김정석
최병수
조현
류정호
김해찬
김진곤
한양대학교 세라믹연구소
[2018]