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무전해 Ni 도금을 위한 양극 산화막위에 스크린 인쇄된 Ag 페이스트 패턴의 정밀도 개선
이연승
나사균
Lee, Youn-Seoung
Rha, Sa-Kyun
2017년
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논문 Analysis
연구자 Analysis
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이연승
나사균
Lee, Youn-Seoung
Rha, Sa-Kyun
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연구자정보
저자
Rha, Sa-Kyun
발표논문(1)
발표논문 보기→
공동연구자(3)
Lee, Youn-Seoung
1건
나사균
1건
이연승
1건
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※활용도순 상위 20명
공동연구/유사연구
Rha, Sa-Kyun
'Rha, Sa-Kyun'의 연구자 점유율
논문점유율 요약
동일주제 총논문수
주제별 연구자 총논문수
연구자점유율(주제별 연구자점유율의 평균)
728
1
0.1%
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연구자 점유율
주제
주제별 논문수
주제별 연구자논문수
주제별 연구자점유율
주제분류(KDC/DDC)
기술과 연합작용
728
1
0.1%
계
728
1
* 주제로 분류 되지 않은 논문건수
0
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연구주제 Time-line
'Rha, Sa-Kyun'
의 발표논문(1)
무전해 Ni 도금을 위한 양극 산화막위에 스크린 인쇄된 Ag 페이스트 패턴의 정밀도 개선
Lee, Youn-Seoung
이연승
나사균
Rha, Sa-Kyun
한국재료학회
[2017]