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Development of Low Damage Dry Etch to Pattern Sub-10 nm with ACL and High-χ BCP mask

오지수 김교운 신예지 김희주 염근영 2019년

활용도
공유도
영향력

연구자정보

- 저자 오지수
- 발표논문(1)
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공동연구자(4)
- 김교운 1건
- 김희주 1건
- 신예지 1건
- 염근영 1건
유사연구자 (20)※활용도순 상위 20명

공동연구/유사연구

'오지수'의 연구자 점유율

논문점유율 요약
동일주제 총논문수	주제별 연구자 총논문수	연구자점유율(주제별 연구자점유율의 평균)
97	5	22.5%

연구자 점유율
주제		주제별 논문수	주제별 연구자논문수	주제별 연구자점유율
주제어	PS-b-PDMS	2	1	50.0%
	etch profile	3	1	33.3%
	amorphous carbon	4	1	25.0%
	block copolymer	21	1	4.8%
	plasma	67	1	1.5%
계		97	5
* 주제로 분류 되지 않은 논문건수			0

연구주제 Time-line

'오지수'의 발표논문(1)

Development of Low Damage Dry Etch to Pattern Sub-10 nm with ACL and High-χ BCP mask
김교운 오지수 염근영 신예지 김희주 한국진공학회 [2019]