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인기 연구 키워드 :
인기 활용 키워드 :
Double Exposure Laser Interference Lithography for Pattern Diversity using Ultraviolet Continuous-Wave Laser
마용원
박준한
윤단희
곽청렬
신보성
2019년
활용도 Analysis
논문 Analysis
연구자 Analysis
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논문 Analysis
연구자 Analysis
마용원
박준한
윤단희
곽청렬
신보성
연구자명
연구자명
연구자명
활용도
공유도
영향력
연구자정보
저자
마용원
발표논문(1)
발표논문 보기→
공동연구자(4)
곽청렬
1건
박준한
1건
신보성
1건
윤단희
1건
유사연구자 (9)
※활용도순 상위 20명
Gwak, Cheongyeol
1건
Ma, Yong-Won
1건
Park, Jun Han
1건
Shin, Bo Sung
1건
Yun, Dan Hee
1건
곽청렬
1건
박준한
1건
신보성
1건
윤단희
1건
공동연구/유사연구
마용원
'마용원'의 연구자 점유율
논문점유율 요약
동일주제 총논문수
주제별 연구자 총논문수
연구자점유율(주제별 연구자점유율의 평균)
10
5
46.7%
자세히
연구자 점유율
주제
주제별 논문수
주제별 연구자논문수
주제별 연구자점유율
주제어
Gaussian Beam
2
1
50.0%
Multiple Exposure
2
1
50.0%
Regular Submicron Pattern
2
1
50.0%
Wave Pattern
2
1
50.0%
laserinterferencelithography
2
1
50.0%
계
10
5
* 주제로 분류 되지 않은 논문건수
0
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연구주제 Time-line
'마용원'
의 발표논문(1)
Double Exposure Laser Interference Lithography for Pattern Diversity using Ultraviolet Continuous-Wave Laser
곽청렬
윤단희
신보성
박준한
마용원
한국마이크로전자및패키징학회
[2019]