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Effects of pulsed inductively coupled Cl₂/Ar plasma for the etching of Si nanostructure
신예지
김교운
김희주
오지수
박재희
송창훈
염근영
2020년
활용도 Analysis
논문 Analysis
연구자 Analysis
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논문 Analysis
연구자 Analysis
신예지
김교운
김희주
오지수
박재희
송창훈
염근영
연구자명
연구자명
연구자명
활용도
공유도
영향력
연구자정보
저자
오지수
발표논문(1)
발표논문 보기→
공동연구자(6)
김교운
1건
김희주
1건
박재희
1건
송창훈
1건
신예지
1건
염근영
1건
유사연구자 (20)
※활용도순 상위 20명
김교운
1건
김교운
1건
김교운
1건
김정완
1건
김희주
1건
김희주
1건
김희주
1건
박재희
1건
송창훈
1건
신예지
1건
신예지
1건
신예지
1건
염근영
1건
염근영
1건
염근영
1건
오지수
1건
오지수
1건
탁현우
1건
탁현우
1건
홍종우
1건
공동연구/유사연구
오지수
'오지수'의 연구자 점유율
논문점유율 요약
동일주제 총논문수
주제별 연구자 총논문수
연구자점유율(주제별 연구자점유율의 평균)
12
4
37.5%
자세히
연구자 점유율
주제
주제별 논문수
주제별 연구자논문수
주제별 연구자점유율
주제어
Asynchronized pulse
2
1
50.0%
Synchronized pulse
2
1
50.0%
Aspect ratio dependent etch(A ...
4
1
25.0%
Pulsed plasma etching
4
1
25.0%
계
12
4
* 주제로 분류 되지 않은 논문건수
0
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연구주제 Time-line
'오지수'
의 발표논문(1)
Effects of pulsed inductively coupled Cl₂/Ar plasma for the etching of Si nanostructure
김교운
오지수
염근영
신예지
송창훈
박재희
김희주
한국진공학회
[2020]