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오프 상태 스트레스에 의한 에이징된 P형 Poly-Si TFT에서의 GIDL 전류의 특성

신동기 장경수 박희준 김정수 박중현 이준신 Shin, Donggi Jang, Kyungsoo Phu, Nguyen Thi Cam Park, Heejun Kim, Jeongsoo Park, Joonghyun Yi, Junsin 2018년

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영향력

연구자정보

- 저자 Shin, Donggi
- 발표논문(2)
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공동연구자(16)
- Jang, Kyungsoo 2건
- Park, Heejun 2건
- Yi, Junsin 2건
- 김정수 2건
- 박희준 2건
- 신동기 2건
- 이준신 2건
- 장경수 2건
- Kim, Jeongsoo 1건
- Kim, Jungsoo 1건
- Lee, Youn-Jung 1건
- Park, Joonghyun 1건
- Phu, Cam 1건
- Phu, Nguyen Thi Cam 1건
- 박중현 1건
- 이윤정 1건
유사연구자 (20)※활용도순 상위 20명
- Kim, Jin-Ho 1건
- Lee, Mijai 1건
- Lee, Youn-Jung 1건
- Yi, Junsin 1건
- 김미정 1건
- 김봉석 2건
- 김순관 1건
- 김순관,한민수,정선혜,김미정 1건
- 김원준 1건
- 박은주 1건
- 박재표(Jae-Pyo Park) 1건
- 유지아 1건
- 윤초희(尹蕉熙) 1건
- 이윤정 1건
- 이준신 1건
- 장성윤 1건
- 정선혜 1건
- 정용재 1건
- 한민수 1건
- 한예빈 1건

공동연구/유사연구

'Shin, Donggi'의 연구자 점유율

논문점유율 요약
동일주제 총논문수	주제별 연구자 총논문수	연구자점유율(주제별 연구자점유율의 평균)
4,835	14	52.1%

연구자 점유율
주제		주제별 논문수	주제별 연구자논문수	주제별 연구자점유율
주제분류(KDC/DDC)	응용 물리	4,649	2	0.0%
주제어	Charge trapping	1	1	100.0%
	Defect creation	1	1	100.0%
	GIDL current	1	1	100.0%
	Off state stress	1	1	100.0%
	Poly-Si TFT	1	1	100.0%
	Removing bubble	1	1	100.0%
	Roll-to-roll process	3	1	33.3%
	Flexible display	6	1	16.7%
	oca	7	1	14.3%
	lamination	9	1	11.1%
	ocr	66	1	1.5%
	adhesive	89	1	1.1%
계		4,835	14
* 주제로 분류 되지 않은 논문건수			0

연구주제 Time-line

'Shin, Donggi'의 발표논문(2)

기포 제거 공정을 통한 유연한 디스플레이 합착 면의 투과율 및 접착력 향상
Jang, Kyungsoo 장경수 이준신 이윤정 신동기 박희준 김정수 Yi, Junsin Shin, Donggi Phu, Cam Park, Heejun Lee, Youn-Jung Kim, Jungsoo 한국전기전자재료학회 [2018]
오프 상태 스트레스에 의한 에이징된 P형 Poly-Si TFT에서의 GIDL 전류의 특성
Jang, Kyungsoo 장경수 이준신 신동기 박희준 박중현 김정수 Yi, Junsin Shin, Donggi Phu, Nguyen Thi Cam Park, Joonghyun Park, Heejun Kim, Jeongsoo 한국전기전자재료학회 [2018]