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Interface engineering for high-performance ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 capacitors = 계면 기술을 이용한 고성능 Hf0.5Zr0.5O2 강유전체 캐패시터 개발

김범용 2022년

김범용

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- 저자 김범용
- 발표논문(1)
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'김범용'의 연구자 점유율

논문점유율 요약
동일주제 총논문수	주제별 연구자 총논문수	연구자점유율(주제별 연구자점유율의 평균)
1,166	17	19.4%

연구자 점유율
주제		주제별 논문수	주제별 연구자논문수	주제별 연구자점유율
주제분류(KDC/DDC)	기술과 연합작용	728	1	0.1%
주제어	HfON	1	1	100.0%
	sacrificial	1	1	100.0%
	Zr doped HfO2	2	1	50.0%
	interfacial layer	5	1	20.0%
	ruo2	5	1	20.0%
	nitrogen doping	12	1	8.3%
	ru	15	1	6.7%
	TiN	16	1	6.3%
	oxygen vacancy	20	1	5.0%
	barrier	33	1	3.0%
	electrode	35	1	2.9%
	Ferroelectric	36	1	2.8%
	endurance	36	1	2.8%
	grain size	53	1	1.9%
	oxidation	59	1	1.7%
	polarization	109	1	0.9%
계		1,166	17
* 주제로 분류 되지 않은 논문건수			0

연구주제 Time-line

'김범용'의 발표논문(1)

Interface engineering for high-performance ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 capacitors = 계면 기술을 이용한 고성능 Hf0.5Zr0.5O2 강유전체 캐패시터 개발
김범용 서울대학교 대학원 [2022]