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전자선 리소그래피 공정 최적화를 통한 100nm 이하 초미세 패턴을 포함하는 포토 마스크 제작

전상철(Sang-Chul Jeon) 2020년

활용도
공유도
영향력

논문상세정보

- 저자 전상철(Sang-Chul Jeon)
- 제어번호 107074545
- 학술지명 산업기술연구논문지 (JITR)
- 권호사항 Vol. 25 No. 3 [ 2020 ]
- 발행처 산업기술교육훈련학회
- 자료유형 학술저널
- 수록면 1-7 ( 7쪽)
- 언어 -
- 출판년도 2020
- KDC 581
- 등재정보 KCI등재
- 판매처 교보문고
- 주제어 Electron Beam Lithography Photo Mask Proximity Effect Correction Lift-off Scattering 근접효과 보정 노광 마스크 리프트-오프 산란 전자선 리소그래피
- 참고문헌( 0)
유사주제 논문( 496)

인용/피인용

전자선 리소그래피 공정 최적화를 통한 100nm 이하 초 ...

' 전자선 리소그래피 공정 최적화를 통한 100nm 이하 초미세 패턴을 포함하는 포토 마스크 제작' 의 주제별 논문영향력

논문영향력 요약
동일주제 총논문수	논문피인용 총횟수	주제별 논문영향력의 평균
주제	금속제조 및 가공업 Electron Beam Lithography Photo Mask Proximity Effect Correction lift-off scattering 근접효과 보정 노광 마스크 리프트-오프 산란 전자선 리소그래피
507	0	0.0%

논문영향력
주제		주제별 논문수	주제별 피인용횟수	주제별 논문영향력
주제분류(KDC/DDC)	금속제조 및 가공업	413	0	0.0%
주제어	Electron Beam Lithography	1	0	0.0%
	Photo Mask	1	0	0.0%
	Proximity Effect Correction	1	0	0.0%
	lift-off	8	0	0.0%
	scattering	37	0	0.0%
	근접효과 보정	1	0	0.0%
	노광 마스크	1	0	0.0%
	리프트-오프	2	0	0.0%
	산란	41	0	0.0%
	전자선 리소그래피	1	0	0.0%
계		507	0	0.0%
* 다른 주제어 보유 논문에서 피인용된 횟수			0