Planarization Modeling for Device Pattern with Geometric Characteristics of Pad Asperity

논문상세정보
' Planarization Modeling for Device Pattern with Geometric Characteristics of Pad Asperity' 의 주제별 논문영향력
논문영향력 선정 방법
논문영향력 요약
주제
  • Chemical mechanical planarization (화학 기계적 평탄화 공정)
  • Distribution of asperity height (돌기 높이 분포)
  • Mathematical modeling (수학적 모델링)
  • Pad asperity (패드 돌기)
  • Pattern size (패턴 크기)
동일주제 총논문수 논문피인용 총횟수 주제별 논문영향력의 평균
6 0

0.0%