RF Magnetron Sputtering공정에 의해 IT유리에 적층시킨 Silicon Nitride 박막의 특성

논문상세정보
' RF Magnetron Sputtering공정에 의해 IT유리에 적층시킨 Silicon Nitride 박막의 특성' 의 주제별 논문영향력
논문영향력 선정 방법
논문영향력 요약
주제
  • 기술과 연합작용
  • nano-indentation
  • rf magnetron sputtering
  • silicon nitride thin film
  • transmittance
동일주제 총논문수 논문피인용 총횟수 주제별 논문영향력의 평균
834 0

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