인기 연구 키워드 :
인기 활용 키워드 :

ICP etching 시스템의 RF bias 전극에서 측정된 전기적 특성과 플라즈마 파라미터와의 상관관계

이나연 권오형 정진욱 2020년

활용도
공유도
영향력

논문상세정보

- 저자 이나연 권오형 정진욱
- 제어번호 106622332
- 학술지명 한국진공학회 학술발표회초록집
- 권호사항 Vol. 2020 No. 2 [ 2020 ]
- 발행처 한국진공학회
- 발행처 URL http://www.kvs.or.kr
- 자료유형 학술저널
- 수록면 81-81 ( 1쪽)
- 언어 Korean
- 출판년도 2020
- KDC 420
- 판매처 누리미디어
- 주제어 VI Probe 부유 고조화 분석법 이온 밀도 전자온도 플라즈마 임피던스
- 참고문헌( 0)
유사주제 논문( 13)

인용/피인용

ICP etching 시스템의 RF bias 전극에서 측정된 전 ...

' ICP etching 시스템의 RF bias 전극에서 측정된 전기적 특성과 플라즈마 파라미터와의 상관관계' 의 주제별 논문영향력

논문영향력 요약
동일주제 총논문수	논문피인용 총횟수	주제별 논문영향력의 평균
주제	VI Probe 부유 고조화 분석법 이온 밀도 전자온도 플라즈마 임피던스
18	0	0.0%

논문영향력
주제		주제별 논문수	주제별 피인용횟수	주제별 논문영향력
주제어	VI Probe	3	0	0.0%
	부유 고조화 분석법	3	0	0.0%
	이온 밀도	1	0	0.0%
	전자온도	8	0	0.0%
	플라즈마 임피던스	3	0	0.0%
계		18	0	0.0%
* 다른 주제어 보유 논문에서 피인용된 횟수			0