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Effects of pulsed inductively coupled Cl₂/Ar plasma for the etching of Si nanostructure

신예지 김교운 김희주 오지수 박재희 송창훈 염근영 2020년

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논문상세정보

- 저자 신예지 김교운 김희주 오지수 박재희 송창훈 염근영
- 제어번호 106622281
- 학술지명 한국진공학회 학술발표회초록집
- 권호사항 Vol. 2020 No. 2 [ 2020 ]
- 발행처 한국진공학회
- 발행처 URL http://www.kvs.or.kr
- 자료유형 학술저널
- 수록면 102-102 ( 1쪽)
- 언어 Korean
- 출판년도 2020
- KDC 420
- 판매처 누리미디어
- 주제어 Aspect ratio dependent etch(ARDE) Asynchronized pulse Pulsed plasma etching Synchronized pulse
- 참고문헌( 0)
유사주제 논문( 8)

인용/피인용

Effects of pulsed inductively coupled Cl₂/Ar pl ...

' Effects of pulsed inductively coupled Cl₂/Ar plasma for the etching of Si nanostructure' 의 주제별 논문영향력

논문영향력 요약
동일주제 총논문수	논문피인용 총횟수	주제별 논문영향력의 평균
주제	Aspect ratio dependent etch(ARDE) Asynchronized pulse Pulsed plasma etching Synchronized pulse
12	0	0.0%

논문영향력
주제		주제별 논문수	주제별 피인용횟수	주제별 논문영향력
주제어	Aspect ratio dependent etch(A ...	4	0	0.0%
	Asynchronized pulse	2	0	0.0%
	Pulsed plasma etching	4	0	0.0%
	Synchronized pulse	2	0	0.0%
계		12	0	0.0%
* 다른 주제어 보유 논문에서 피인용된 횟수			0