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- 저자 김대현 박태주 Kim, Dae Hyun Park, Tea Joo
- 제어번호 106600517
- 학술지명 반도체디스플레이기술학회지
- 권호사항 Vol. 18 No. 2 [ 2019 ]
- 발행처 한국반도체디스플레이기술학회
- 자료유형 학술저널
- 수록면 98-102 ( 5쪽)
- 언어 Korean
- 출판년도 2019
- 등재정보 KCI등재
- 판매처
- 주제어 $SiO_2$ Low Temperature Process Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition DIPAS ICP SiON