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A Review of Inductively Coupled Plasma-Assisted Magnetron Sputter System

Tae Hyung Kim Geun Young Yeom 2019년

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논문상세정보

- 저자 Tae Hyung Kim Geun Young Yeom
- 제어번호 106429961
- 학술지명 Applied Science and Convergence Technology
- 권호사항 Vol. 28 No. 5 [ 2019 ]
- 발행처 한국진공학회(ASCT)
- 발행처 URL http://www.kvs.or.kr
- 자료유형 학술저널
- 수록면 131-138 ( 8쪽)
- 언어 English
- 출판년도 2019
- 등재정보 KCI등재
- 판매처 누리미디어
- 주제어 Inductively coupled plasma magnetron sputter Inductively-coupled plasma Sputter Ionization
- 참고문헌( 0)
유사주제 논문( 40)

인용/피인용

A Review of Inductively Coupled Plasma-Assiste ...

' A Review of Inductively Coupled Plasma-Assisted Magnetron Sputter System' 의 주제별 논문영향력

논문영향력 요약
동일주제 총논문수	논문피인용 총횟수	주제별 논문영향력의 평균
주제	Inductively coupled plasma magnetron sputter Inductively-coupled plasma Sputter ionization
44	0	0.0%

논문영향력
주제		주제별 논문수	주제별 피인용횟수	주제별 논문영향력
주제어	Inductively coupled plasma ma ...	2	0	0.0%
	Inductively-coupled plasma	23	0	0.0%
	Sputter	12	0	0.0%
	ionization	7	0	0.0%
계		44	0	0.0%
* 다른 주제어 보유 논문에서 피인용된 횟수			0