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Characteristics of low-temperature at 80°C HfO2 deposited by ALD (Atomic Layer Deposition) and electrical properties of NMOS capacitor

Kyoung-Mun Kim Soon-Gil Yoon Nak-Kwan Chung 2019년

활용도
공유도
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논문상세정보

- 저자 Kyoung-Mun Kim Soon-Gil Yoon Nak-Kwan Chung
- 제어번호 106361334
- 학술지명 한국진공학회 학술발표회초록집
- 권호사항 Vol. 2019 No. 8 [ 2019 ]
- 발행처 한국진공학회
- 발행처 URL http://www.kvs.or.kr
- 자료유형 학술저널
- 수록면 43-43 ( 1쪽)
- 언어 Korean
- 출판년도 2019
- KDC 420
- 판매처 누리미디어
- 주제어 Capacitor Flexible HfO2
- 참고문헌( 0)
유사주제 논문( 98)

인용/피인용

Characteristics of low-temperature at 80°C HfO ...

' Characteristics of low-temperature at 80°C HfO2 deposited by ALD (Atomic Layer Deposition) and electrical properties of NMOS capacitor' 의 주제별 논문영향력

논문영향력 요약
동일주제 총논문수	논문피인용 총횟수	주제별 논문영향력의 평균
주제	Capacitor Flexible hfo2
101	0	0.0%

논문영향력
주제		주제별 논문수	주제별 피인용횟수	주제별 논문영향력
주제어	Capacitor	30	0	0.0%
	Flexible	53	0	0.0%
	hfo2	18	0	0.0%
계		101	0	0.0%
* 다른 주제어 보유 논문에서 피인용된 횟수			0