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에어로졸 데포지션으로 제조된 4H-SiC 위 Al
2
O
3
게이트 산화막의 후열처리 공정에 따른 전기적 특성
김홍기
김성준
강민재
조명연
오종민
구상모
이남석
신훈규
Kim, Hong-Ki
Kim, Seongjun
Kang, Min-Jae
Cho, Myung-Yeon
Oh, Jong-Min
Koo, Sang-Mo
Lee, Nam-suk
Shin, Hoon-Kyu
2018년
활용도 Analysis
논문 Analysis
연구자 Analysis
활용도 Analysis
논문 Analysis
연구자 Analysis
활용도
공유도
영향력
논문상세정보
저자
김홍기
김성준
강민재
조명연
오종민
구상모
이남석
신훈규
Kim, Hong-Ki
Kim, Seongjun
Kang, Min-Jae
Cho, Myung-Yeon
Oh, Jong-Min
Koo, Sang-Mo
Lee, Nam-suk
Shin, Hoon-Kyu
주제어
$Al_2O_3$
4H-SiC
Aerosol Deposition
Post Annealing
GateOxide
참고문헌( 0)
유사주제 논문( 4,732)
응용 물리 4,648건
4h-sic 53건
$al_2o_3$ 21건
gateoxide 6건
Aerosol Deposition 3건
Post Annealing 1건
인용/피인용
에어로졸 데포지션으로 제조된 4H-SiC 위 Al
2< ...
' 에어로졸 데포지션으로 제조된 4H-SiC 위 Al
2
O
3
게이트 산화막의 후열처리 공정에 따른 전기적 특성' 의 주제별 논문영향력
논문영향력 요약
주제
응용 물리
$al_2o_3$
4h-sic
Aerosol Deposition
Post Annealing
gateoxide
동일주제 총논문수
논문피인용 총횟수
주제별 논문영향력의 평균
4,738
0
0.0%
자세히
주제별 논문영향력
논문영향력
주제
주제별 논문수
주제별 피인용횟수
주제별 논문영향력
주제분류(KDC/DDC)
응용 물리
4,649
0
0.0%
주제어
$al_2o_3$
22
0
0.0%
4h-sic
54
0
0.0%
Aerosol Deposition
4
0
0.0%
Post Annealing
2
0
0.0%
gateoxide
7
0
0.0%
계
4,738
0
0.0%
* 다른 주제어 보유 논문에서 피인용된 횟수
0
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