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Inductively coupled plasma etching of high-k dielectric HfSiO4 film

최병수 김해찬 김진곤 김정석 류정호 조현 2018년

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논문상세정보

- 저자 최병수 김해찬 김진곤 김정석 류정호 조현
- 제어번호 106064086
- 학술지명 Journal of Ceramic Processing Research
- 권호사항 Vol. 19 No. 1 [ 2018 ]
- 발행처 한양대학교 세라믹연구소
- 자료유형 학술저널
- 수록면 65-68
- 언어 English
- 출판년도 2018
- 등재정보 KCI등재
- 소장기관 계명대학교 동산도서관
- 판매처
- 참고문헌( 21)
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