Characteristics of NiO films prepared by atomic layer deposition using bis(ethylcyclopentadienyl)-Ni and O2 plasma
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저자
지수현
장우성
손정욱
김도형
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제어번호
105945255
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학술지명
Korean Journal of Chemical Engineering
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권호사항
Vol.
35
No.
12
[
2018
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발행처
한국화학공학회
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발행처 URL
http://www.kiche.or.kr
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자료유형
학술저널
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수록면
2474-2479
(
6쪽)
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언어
English
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출판년도
2018
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등재정보
KCI등재
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판매처
