계면활성제가 반도체 실리콘 CMP용 슬러리의 분산안정성에 미치는 영향

논문상세정보
' 계면활성제가 반도체 실리콘 CMP용 슬러리의 분산안정성에 미치는 영향' 의 주제별 논문영향력
논문영향력 선정 방법
논문영향력 요약
주제
  • 금속세공술 과정과 기본 금속 생산
  • CMP slurry
  • Dispersion stability
  • Surfactant
  • Zeta potential
  • turbiscan
동일주제 총논문수 논문피인용 총횟수 주제별 논문영향력의 평균
322 0

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