Improving Interface Characteristics of Al2O3-Based Metal-Insulator-Semiconductor(MIS) Diodes Using H2O Prepulse Treatment by Atomic Layer Deposition

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' Improving Interface Characteristics of Al2O3-Based Metal-Insulator-Semiconductor(MIS) Diodes Using H2O Prepulse Treatment by Atomic Layer Deposition' 의 주제별 논문영향력
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주제
  • 기술과 연합작용
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