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플라즈마 강화 원자층 증착법에 의한 TaN_x 박막의 전기 전도도 조절

류성연 최병준 Ryu, Sung Yeon Choi, Byung Joon 2018년

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논문상세정보

- 저자 류성연 최병준 Ryu, Sung Yeon Choi, Byung Joon
- 제어번호 105349337
- 학술지명 한국재료학회지
- 권호사항 Vol. 28 No. 4 [ 2018 ]
- 발행처 한국재료학회
- 발행처 URL http://www.mrs-k.or.kr
- 자료유형 학술저널
- 수록면 241-246
- 언어 Korean
- 출판년도 2018
- 등재정보 KCI등재
- 소장기관 경북대학교 중앙도서관
- 판매처
- 주제어 chemical bonding reactive gas $TaN_x$ film electrical conductivity plasma enhanced atomic layer deposition
- 참고문헌( 0)
유사주제 논문( 858)

인용/피인용

플라즈마 강화 원자층 증착법에 의한 TaN_x

' 플라즈마 강화 원자층 증착법에 의한 TaN_x 박막의 전기 전도도 조절' 의 주제별 논문영향력

논문영향력 요약
동일주제 총논문수	논문피인용 총횟수	주제별 논문영향력의 평균
주제	기술과 연합작용 chemical bonding reactive gas $TaN_x$ film electrical conductivity plasma enhanced atomic layer deposition
864	0	0.0%

논문영향력
주제		주제별 논문수	주제별 피인용횟수	주제별 논문영향력
주제분류(KDC/DDC)	기술과 연합작용	728	0	0.0%
주제어	chemical bonding	5	0	0.0%
	reactive gas	2	0	0.0%
	$TaN_x$ film	1	0	0.0%
	electrical conductivity	120	0	0.0%
	plasma enhanced atomic layer ...	8	0	0.0%
계		864	0	0.0%
* 다른 주제어 보유 논문에서 피인용된 횟수			0