Drastic improvement of as-sputtered silicon nitride thin film quality at room temperature by ArF excimer-laser annealing method
-
-
저자
D.H. Choi
H.S. Kim
S.Y. Oh
C.H. Lee
-
제어번호
103563063
-
학술지명
Current Applied Physics
-
권호사항
Vol.
16
No.
8
[
2016
]
-
발행처
한국물리학회
-
자료유형
학술저널
-
수록면
876-885
-
언어
English
-
출판년도
2016
-
등재정보
KCI등재
-
판매처