인기 연구 키워드 :
인기 활용 키워드 :

GaN epitaxy 층의 식각특성에 미치는 공정변수의 영향

최병수 박해리 조현 Choi, Byoung Su Park, Hae Li Cho, Hyun 2016년

활용도
공유도
영향력

논문상세정보

- 저자 최병수 박해리 조현 Choi, Byoung Su Park, Hae Li Cho, Hyun
- 제어번호 102494318
- 학술지명 한국결정성장학회지
- 권호사항 Vol. 26 No. 4 [ 2016 ]
- 발행처 한국결정성장학회
- 발행처 URL http://www.kacg.net
- 자료유형 학술저널
- 수록면 145-149
- 언어 Korean
- 출판년도 2016
- 등재정보 KCI등재
- 소장기관 연세대학교 학술문화처 도서관 연세대학교 학술문화처 도서관 영남대학교 과학도서관
- 판매처
- 주제어 $Cl_2/Ar$ and $SF_6/Ar$ Anisotropy GaN etching Inductively coupled plasma Etchrate
- 참고문헌( 0)
유사주제 논문( 313)

인용/피인용

GaN epitaxy 층의 식각특성에 미치는 공정변수의 영 ...

' GaN epitaxy 층의 식각특성에 미치는 공정변수의 영향' 의 주제별 논문영향력

논문영향력 요약
동일주제 총논문수	논문피인용 총횟수	주제별 논문영향력의 평균
주제	결정학 $Cl_2/Ar$ and $SF_6/Ar$ Anisotropy GaN etching Inductively coupled plasma etchrate
319	0	0.0%

논문영향력
주제		주제별 논문수	주제별 피인용횟수	주제별 논문영향력
주제분류(KDC/DDC)	결정학	263	0	0.0%
주제어	$Cl_2/Ar$ and $SF_6/Ar$	1	0	0.0%
	Anisotropy	43	0	0.0%
	GaN etching	1	0	0.0%
	Inductively coupled plasma	2	0	0.0%
	etchrate	9	0	0.0%
계		319	0	0.0%
* 다른 주제어 보유 논문에서 피인용된 횟수			0