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Surface Etching of TiO₂ Thin Films Using High Density Cl₂/Ar Plasma

Woo, Jong-Chang Joo, Young-Hee Kim, Chang-Il 2015년

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논문상세정보

- 저자 Woo, Jong-Chang Joo, Young-Hee Kim, Chang-Il
- 제어번호 101786793
- 학술지명 Transactions on Electrical and Electronic Materials
- 권호사항 Vol. 16 No. 6 [ 2015 ]
- 발행처 The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
- 발행처 URL http://www.kieeme.or.kr
- 자료유형 학술저널
- 수록면 346-350
- 언어 English
- 출판년도 2015
- 등재정보 KCI등재
- 소장기관 영남대학교 중앙도서관 영남대학교 중앙도서관
- 판매처
- 주제어 $TiO_2$ etching Highdensityplasma X-ray photoelectron spectroscopy
- 참고문헌( 0)
유사주제 논문( 123)

인용/피인용

Surface Etching of TiO₂ Thin F ...

' Surface Etching of TiO₂ Thin Films Using High Density Cl₂/Ar Plasma' 의 주제별 논문영향력

논문영향력 요약
동일주제 총논문수	논문피인용 총횟수	주제별 논문영향력의 평균
주제	$tio_2$ etching highdensityplasma x-ray photoelectron spectroscopy
127	0	0.0%

논문영향력
주제		주제별 논문수	주제별 피인용횟수	주제별 논문영향력
주제어	$tio_2$	62	0	0.0%
	etching	41	0	0.0%
	highdensityplasma	2	0	0.0%
	x-ray photoelectron spectrosc ...	22	0	0.0%
계		127	0	0.0%
* 다른 주제어 보유 논문에서 피인용된 횟수			0