연구동향 분석

반도체 웨이퍼 제조공정 클린룸 구조, 공기조화 및 오염제어시스템

최광민 ( Kwang Min Choi ) 이지은 ( Ji Eun Lee ) 조귀영 ( Kwi Young Cho ) 김관식 ( Kwan Sick Kim ) 조수헌 ( Soo Hun Cho ) 2015년

논문상세정보
인용/피인용
' 반도체 웨이퍼 제조공정 클린룸 구조, 공기조화 및 오염제어시스템' 의 주제별 논문영향력
논문영향력 선정 방법
논문영향력 요약
주제
  • 위생학, 공공의학
  • air conditioning
  • cleanroomstructure
  • contaminationcontrolsystem
  • semiconductor work environment
동일주제 총논문수 논문피인용 총횟수 주제별 논문영향력의 평균
137 0

0.0%

' 반도체 웨이퍼 제조공정 클린룸 구조, 공기조화 및 오염제어시스템' 의 참고문헌

  • 반도체 조립공정의 화학물질 노출특성 및 작업환경관리
    박승현 한국산업보건학회지 24 (3) : 272 ~ 280 [2014]
  • 반도체 제조 근로자의 극저주파 자기장 노출 평가
    정은교 한국산업보건학회지 22 (1) : 42 ~ 51 [2012]
  • 반도체 제조 공정에서 발생 가능한 부산물
    박승현 한국산업보건학회지 22 (1) : 52 ~ 59 [2012]
  • 반도체 작업환경 내 부산물로 생성되는 실리카 입자의 크기, 형상 및 결정 구조
    최광민 한국산업보건학회지 25 (1) : 36 ~ 44 [2015]
  • 반도체 웨이퍼 가공 근로자의 생식독성과 암 위험 역학연구에서 과거 노출평가 방법 고찰
    박동욱 한국산업보건학회지 22 (1) : 9 ~ 19 [2012]
  • 반도체 웨이퍼 가공 공정 및 잠재적 유해인자에 대한 고찰
    박동욱 Annals of Occupational and Environmental Medicine 23 (3) : 333 ~ 342 [2011]
  • Ultra clean ULSI technology
    Ohmi T Baihunnkan [1995]
  • Standard, US Federal. FED-STD-209E. Airborne particulate cleanliness classes in clean room and clean zones
    [1992]
  • Quantitative exposure assessment of various chemical substances in a wafer fabrication industry facility
    Park HH Saf Health Work 2 : 39 ~ 51 [2011]
  • Properties of Advanced Semiconductor Materials:GaN, AlN, InN, BN, SiC, SiGe
    Levinshtein ME John Wiley & Sons Inc [2001]
  • International technology roadmap for semiconductors (ITRS)
    Wilson L Semiconductor Industry Association [2013]
  • Identifying the hazard characteristics of powder by-products generated semiconductor fabrication processes
    Choi KM J Occup Environ Hyg 12 (2) : 114 ~ 122 [2015]
  • ISO 14644-1, Clelanrooms and associate controlled environments-Part 1: classification of air cleanliness
  • Hazard identification of powder generated from a chemical vapor deposition process in the semiconductor manufacturing industry
    Choi KM J Occup Environ Hyg 10 (1) : D1 ~ D5 [2013]
  • Fundamental of physical geography
    Pidwirny M Date Viewed 19 : 2009 ~ [2006]
  • Exposure to volatile organic compounds and possibility of exposure to by-product volatile organic compounds in photolithography processes in semiconductor manufacturing factories
    Park SH Saf Health Work 2 : 210 ~ 217 [2011]
  • Exposure characteristics of nanoparticles as process by-products for the semiconductor manufacturing industry
    Choi KM J Occup Environ Hyg [2015]
  • Cleanroom Technology - fundamentals of design, testing and operation
    Whyte W John Wiley & Sons Inc : 1 ~ 8 [2001]
  • Case series of malignant lymphohematopoietic disorder in Korean semiconductor industry
    Kim EA Saf Health Work 2 : 122 ~ 134 [2011]
  • Cancer mortality and incidence in Korean semiconductor workers
    Lee HE Saf Health Work 2 : 135 ~ 147 [2011]