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Etching Characteristics of Cu & ITO/Ag/ITO Metal Electrode in High Density and High Electron Temperature Plasma with Application to High Resolution Stretchable OLED

윤호원 2021년

활용도
공유도
영향력

논문상세정보

- 저자 윤호원
- 형태사항 26 cm: xii,94 장 :: 천연색삽화, 도표
- 일반주기 지도교수: 홍문표, 참고문헌: 장 78-94
- 학위논문사항 학위논문(박사)-, 2021. 8, 응용물리학과, 고려대학교 대학원
- 발행지 서울
- 언어 eng
- 출판년 2021
- 발행사항 고려대학교 대학원
- 주제어 ECR-RIE H2/HCl gas ITO/Ag/ITO Cu one-step dry etch
- 참고문헌( 0)
유사주제 논문( 77)
- cu 70건
- ITO/Ag/ITO 7건

인용/피인용

Etching Characteristics of Cu & ITO/Ag/ITO ...

' Etching Characteristics of Cu & ITO/Ag/ITO Metal Electrode in High Density and High Electron Temperature Plasma with Application to High Resolution Stretchable OLED' 의 주제별 논문영향력

논문영향력 요약
동일주제 총논문수	논문피인용 총횟수	주제별 논문영향력의 평균
주제	ECR-RIE H2/HCl gas ITO/Ag/ITO cu one-step dry etch
82	0	0.0%

논문영향력
주제		주제별 논문수	주제별 피인용횟수	주제별 논문영향력
주제어	ECR-RIE	1	0	0.0%
	H2/HCl gas	1	0	0.0%
	ITO/Ag/ITO	8	0	0.0%
	cu	71	0	0.0%
	one-step dry etch	1	0	0.0%
계		82	0	0.0%
* 다른 주제어 보유 논문에서 피인용된 횟수			0