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반도체 고밀도 플라즈마 식각장치의 상부 전극 품질 최적화 연구 = A study on the optimization of upper electrode quality for semiconductor high density plasma etching equipment
이은영
2021년
활용도 Analysis
논문 Analysis
연구자 Analysis
활용도 Analysis
논문 Analysis
연구자 Analysis
활용도
공유도
영향력
논문상세정보
저자
이은영
형태사항
146: 26 cm
일반주기
지도교수: 김문기
학위논문사항
메카트로닉스공학과 메카트로닉스공학 전공, 학위논문(박사)-, 한국기술교육대학교 일반대학원, 2021. 2
발행지
천안
언어
kor
출판년
2021
발행사항
한국기술교육대학교 일반대학원
주제어
내부 손상
순도
실리콘 전극
표면 거칠기
표면 형태
참고문헌( 0)
유사주제 논문( 96)
표면 거칠기 88건
순도 8건
인용/피인용
반도체 고밀도 플라즈마 식각장치의 상부 전극 품질 최 ...
' 반도체 고밀도 플라즈마 식각장치의 상부 전극 품질 최적화 연구 = A study on the optimization of upper electrode quality for semiconductor high density plasma etching equipment' 의 주제별 논문영향력
논문영향력 요약
주제
내부 손상
순도
실리콘 전극
표면 거칠기
표면 형태
동일주제 총논문수
논문피인용 총횟수
주제별 논문영향력의 평균
101
0
0.0%
자세히
주제별 논문영향력
논문영향력
주제
주제별 논문수
주제별 피인용횟수
주제별 논문영향력
주제어
내부 손상
1
0
0.0%
순도
9
0
0.0%
실리콘 전극
1
0
0.0%
표면 거칠기
89
0
0.0%
표면 형태
1
0
0.0%
계
101
0
0.0%
* 다른 주제어 보유 논문에서 피인용된 횟수
0
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