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- 저자 박진택
- 기타서명 대기 플라즈마 처리를 통한 고성능 용액 공정 금속 산화물 박막 트랜지스터 개발에 관한 연구
- 형태사항 xiv, 106장: 26 cm: 삽화, 표
- 일반주기 참고문헌 수록
- 학위논문사항 학위논문(박사)-, 서울대학교 대학원, 2020. 8, 융합과학부 나노융합전공
- DDC 22, 620.5
- 발행지 서울
- 언어 eng
- 출판년 2020
- 발행사항 서울대학교 대학원
- 주제어 Atmospheric pressure plasma gatedielectric low-temperature process oxide semiconductor solution process thin film transistor 대기 플라즈마 박막 트랜지스터 산화물 반도체 용액 공정 저온 공정 절연체