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- 저자 최은화
- 기타서명 다중 배열 레이저 라만 분광법을 이용한 반도체 박막 공정, CMP슬러리용액 및 디스플레이 세정 공정 모니터링 및 진단 연구
- 형태사항 26 cm: 삽화(일부천연색): ix, 114장
- 일반주기 지도교수: 표성규, 중앙대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다, 참고문헌수록
- 학위논문사항 학위논문(박사)-, 융합공학학과 나노공학전공, 중앙대학교 대학원, 2020. 2
- 발행지 서울
- 언어 eng
- 출판년 2020
- 발행사항 중앙대학교 대학원
- 주제어 CMP slurry Raman Spectroscopy cleaningsolution real-time monitoring thin film