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박사

Evaluating Dielectric Thin Film for Next-generation DRAM Capacitor using Al-doped TiO2

전우진 2015년

활용도
공유도
영향력

논문상세정보

- 저자 전우진
- 형태사항 26 cm: 삽화: xvii, 150 p.
- 일반주기 참고문헌 수록
- 학위논문사항 재료공학부, 2015. 2, 서울대학교 대학원, 학위논문 (박사)-
- DDC 620.1, 22
- 발행지 서울
- 언어 eng
- 출판년 2015
- 발행사항 서울대학교 대학원
- 주제어 Al-doped TiO2 Atomic Layer Deposition capacitance capacitor conduction mechanism dielectric dynamic random access memory Electrode equivalent oxide thickness High-k leakage current O3 Ru RuO2 TiO2
- 참고문헌( 0)
유사주제 논문( 459)

인용/피인용

Evaluating Dielectric Thin Film for Next-genera ...

' Evaluating Dielectric Thin Film for Next-generation DRAM Capacitor using Al-doped TiO2' 의 주제별 논문영향력

논문영향력 요약
동일주제 총논문수	논문피인용 총횟수	주제별 논문영향력의 평균
주제	al-doped tio2 atomic layer deposition capacitance capacitor conduction mechanism dielectric dynamic random access memory electrode equivalent oxide thickness high-k leakage current o3 ru ruo2 tio2
474	0	0.0%

논문영향력
주제		주제별 논문수	주제별 피인용횟수	주제별 논문영향력
주제어	al-doped tio2	2	0	0.0%
	atomic layer deposition	53	0	0.0%
	capacitance	37	0	0.0%
	capacitor	26	0	0.0%
	conduction mechanism	6	0	0.0%
	dielectric	25	0	0.0%
	dynamic random access memory	3	0	0.0%
	electrode	77	0	0.0%
	equivalent oxide thickness	1	0	0.0%
	high-k	10	0	0.0%
	leakage current	39	0	0.0%
	o3	10	0	0.0%
	ru	15	0	0.0%
	ruo2	5	0	0.0%
	tio2	165	0	0.0%
계		474	0	0.0%
* 다른 주제어 보유 논문에서 피인용된 횟수			0