연구동향 분석
홈
알림
이용안내
오류접수
API
서비스소개
인기 연구 키워드 :
인기 활용 키워드 :
Park, Tea Joo
연구자 Analysis
발표논문
연구자 Analysis
발표논문
년도별 발표논문
검색결과
제목
활용도
공유도
영향력
3차원 소자 제작을 위한 ICP Type Remote PEALD를 이용한 저온(< 300℃) SiO
2
및 SiON 박막 공정
Kim, Dae Hyun
박태주
김대현
Park, Tea Joo
한국반도체디스플레이기술학회[2019]
Google Scholar
네이버 전문정보