Park, Tea Joo

검색결과
제목	활용도	공유도	영향력
3차원 소자 제작을 위한 ICP Type Remote PEALD를 이용한 저온(< 300℃) SiO₂ 및 SiON 박막 공정 Kim, Dae Hyun 박태주 김대현 Park, Tea Joo 한국반도체디스플레이기술학회[2019] Google Scholar 네이버 전문정보