정준화(J. H. Chung)

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포토마스크 공정의 Plasma Etching 시 발생하는 Alumina Particle 개선 김대인(D. I. Kim) 정준화(J. H. Chung) 정유석(Y. S. Jeong) 전찬욱(C. U. Jeon) 장일용(I. Y. Jang) 성재환(J. H. Sung) 박환욱(H.W. Park) 한국정밀공학회[2014] Google Scholar 네이버 전문정보