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인기 연구 키워드 :
인기 활용 키워드 :
산화막의 질화 조건에 따른 트랩 파라미터에 관한 연구
윤운하(Woon Ha Yoon)
강성준(Seong Jun Kang)
정양희(Yang Hee Joung)
2016년
활용도 Analysis
논문 Analysis
연구자 Analysis
활용도 Analysis
논문 Analysis
연구자 Analysis
윤운하(Woon Ha Yoon)
강성준(Seong Jun Kang)
정양희(Yang Hee Joung)
연구자명
연구자명
연구자명
활용도
공유도
영향력
연구자정보
저자
강성준(Seong Jun Kang)
발표논문(3)
발표논문 보기→
공동연구자(3)
정양희(Yang Hee Joung)
3건
윤운하(Woon Ha Yoon)
1건
정윤근(Yeun Gun Chung)
1건
유사연구자 (20)
※활용도순 상위 20명
Cho, Sun-Ran
1건
Cho, Sung Woo
1건
Kim, Gil-Hah
1건
Kim, Hyun Kyung
1건
Kim, Sung Il
1건
Koo, Hyun-Na
1건
Lee, Seung Ju
1건
Park, Geun Ho
1건
구현나
1건
권진아 ( Jin A Kwon )
1건
김길하
1건
김성일
1건
김지우
1건
김현경
1건
박경일 ( Kyung Il Park )
1건
박근호
1건
손신영
1건
윤기혁(Ki Hyok Youn)
1건
이승주
1건
조선란
1건
공동연구/유사연구
강성준(Seong Jun Kang)
'강성준(Seong Jun Kang)'의 연구자 점유율
논문점유율 요약
동일주제 총논문수
주제별 연구자 총논문수
연구자점유율(주제별 연구자점유율의 평균)
1,655
23
47.2%
자세히
연구자 점유율
주제
주제별 논문수
주제별 연구자논문수
주제별 연구자점유율
주제분류(KDC/DDC)
전기통신
1,499
3
0.2%
주제어
FI CD
1
1
100.0%
Nitride Films
1
1
100.0%
Node Poly
1
1
100.0%
RSA Algorithm(RSA 알고리 ...
1
1
100.0%
셀 커패시턴스
1
1
100.0%
질화막
1
1
100.0%
최종 규격
1
1
100.0%
하부 전극
1
1
100.0%
Oxide Films
2
1
50.0%
Remote System(원격 시스템)
3
1
33.3%
질화
3
1
33.3%
Security(보안)
5
1
20.0%
Nitridation
9
1
11.1%
산화막
11
1
9.1%
Cs
12
1
8.3%
주입
13
1
7.7%
트랩
13
1
7.7%
Trap
18
1
5.6%
unmanned aerial vehicle(무인 ...
24
1
4.2%
Injection
35
1
2.9%
계
1,655
23
* 주제로 분류 되지 않은 논문건수
0
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연구주제 Time-line
'강성준(Seong Jun Kang)'
의 발표논문(3)
산화막의 질화 조건에 따른 트랩 파라미터에 관한 연구
강성준(Seong Jun Kang)
정양희(Yang Hee Joung)
윤운하(Woon Ha Yoon)
한국전자통신학회
[2016]
메모리 소자의 셀 커패시턴스에 미치는 공정 파라미터 해석
강성준(Seong Jun Kang)
정윤근(Yeun Gun Chung)
정양희(Yang Hee Joung)
한국전자통신학회
[2017]
Effects of Working Pressure on Structural and Optical Properties of HfO₂ Thin Films
강성준(Seong Jun Kang)
정양희(Yang Hee Joung)
한국전자통신학회
[2017]